品牌

稳定杆微机控制荧光磁粉探伤机

型号

CEW-2000型

CEW-2000型稳定杆微机控制荧光磁粉探伤机 根据磁粉探伤原理，按GB3721-83及JB/T8290-1998《磁粉探伤机标准》制造。 磁化原理及特点 磁粉探伤机的磁化原理是通过外加磁场施加于被探工件，在缺陷处形成漏磁场从而引起磁粉的堆积，客观地反映缺陷的大小、位置和方向。 磁化电源的主电路采用可控硅无极调压技术，利用三相交流电互成120°相位差的原理，周向采用外加法，纵向采用磁化线圈法，使两相磁化电流同时施加于被探工件表面进行复合磁化，从而检查出工件表面及近表面因锻压、淬火、研磨、疲劳而引起的裂纹、断裂等缺陷。除复合磁化外，也可对工件进行单向磁化，磁化电流均连续可调，带断电相位控制功能。该设备既能用连续法探伤，又可用剩磁法探伤。 设备采用分立式组合型结构，主要包括：磁化夹持装置、磁悬液喷洒及回收机等几个部分组成。 主要技术参数 1、周向磁化电流：AC、DC 0~2000A（有效值），连续可调，带断电相位控制 2、纵向磁化磁势：AC、DC 0~10000AT（有效值），连续可调，带断电相位控制 3、探伤灵敏度：A型2#试片清晰显示全圆； 4、退磁磁势：10000AT~0自动衰减到零； 5、退磁效果：退磁后剩磁≤0.2mT； 6、电极间距：0~600mm电动可调； 7、夹紧方式：脚踏夹紧； 8、磁化方式：周向磁化、纵向磁化、复合磁化三种； 9、夹紧行程：30mm； 10、电源：三相电源，380V，50Hz，约160A。