特点： 

· 易于安装

· 基于视窗结构的软件，很容易操作

· 先进的光学设计，以确保能发挥出的系统性能

· 基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测量

· 独特的光源设计，有着较好的光源强度稳定性

· 有四种方法来调整光的强度：

§ 通过电源的调节旋钮来调节电源输出的大小

§ 在光输出端口滤光槽内调整滤光片来调整

§ 调整光束大小

§ 通过TFProbe软件，在探测器里调整积分时间

· 多可测量5层的薄膜厚度和折射率

· 在毫秒的时间内，可以获得反射率、传输率和吸收光谱等一些参数 

· 能够用于实时或在线的厚度、折射率测量

· 系统配备大量的光学常数数据及数据库

· 对于每个被测薄膜样品，用户可以利用先进的软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析；   

· 可升级至MSP（显微分光光度计）系统，SRM成像系统，多通道分析系统，大点测量。

· 通过模式和特性结构直接测量。

· 能够应用于不同类型、不同厚度的基片测量。

· 提供的各种配件可用于特殊结构的测量，例如通过曲线表面进行纵长测量。

· 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。

系统配置： 

· 型号：SR500R

· 双探测器：对于紫外可见光用CCD，对于近红外使用InGaAs探测器

· 光源：氘和卤素灯

· 光传送方式：光纤

· 台架平台：特殊处理铝合金，能够很容易的调节样品重量，200mmx200mm的大小

· 软件： TFProbe 2.2版本的软件

· 通讯接口：USB的通讯接口与计算机相连

· 测量类型：薄膜厚度，反射光谱，折射率 

· 电脑硬件要求：P3以上、50 MB的空间

· 电源：110–240V AC/50-60Hz，1.5A

· 保修：一年的整机及零备件保修

规格： 

· 波长范围：250nm到1700 nm

· 光斑尺寸：500μm至5mm

· 样品尺寸：200mmx200mm或直径为200mm

· 基板尺寸：多可至50毫米厚

· 测量厚度范围*：2nm?150μm

· 测量时间：快2毫秒 

· 精确度*：优于0.5％（通过使用相同的光学常数，让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较）

· 重复性误差*：小于1 ?

应用:                  

· 半导体制造（PR，Oxide, Nitride..) 

· 液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..） 

· 医学，生物薄膜及材料领域等

· 油墨，矿物学，颜料，调色剂等

· 医药设备

· 光学涂层，TiO2, SiO2, Ta2O5... .. 

· 半导体化合物

· 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜

· 非晶体，纳米材料和结晶硅