无掩模光刻机

无掩膜光刻机 型号 DS-2000/1.0型
1．技术特征 采用DMD作为数字掩模，像素1024×768
采用1倍缩小投影光刻物镜成像，曝光面积约14mm×10mm
采用技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现工件定位和曝光拼接，
可适应100mm×100mm基片。
2．技术参数
光源：350W球形汞灯（曝光谱线： i线）；
照明均匀性：±2%； 物镜倍率：1倍
曝光场面积：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；
工件台运动定位：±1.5μm；
调焦台运动灵敏度：1μm；
调焦台运动行程：6mm 转动台行程：±6°以上
基片尺寸外径: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（长）×450mm(宽) ×830mm（高）

无掩模光刻机系统关键技术：曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等

应用领域 
集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器、生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示、声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、

码盘刻划等