类型	薄膜测厚仪	品牌	OTSUKA
型号	FE-3000	测量范围	1nm-250μm（mm）
外形尺寸	481（H）×770（D）×714（W）（主體部分）（mm）

紫外到近紅外光領域的反射光譜，適用於多層膜量測、光學常數分析的光干涉式膜厚儀。

以光為量測媒介，非接觸式、不破壞樣品的高再現性。190nm~1600nm的大範圍波長解析。1nm~250μm薄膜到厚膜的全般對應。可對應顯微鏡下的微小量測範圍。

分光膜厚儀系列
橢圓偏光儀 FE-5000　　膜厚光譜分析儀系統 MCPD series
桌上型橢圓偏光儀 FE-5000S 　　膜厚量測儀 FE-300

絕對反射率分析多層膜解析光學常數解析（n:屈折率，k:衰減係數）

■平面顯示器
　?液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
■半導體、化合物半導體
　?矽半導體、半導體雷射、強誘電、介電常數材料
■資料儲存
　?DVD、錄影機讀取頭薄膜、磁性材料
■光學材料
　?濾光板、抗反射膜
■平面顯示器
　?液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
■薄膜
　?抗反射膜
■其它
　?建築用材料

  標準型 厚膜對應型膜厚量測範圍1 nm ~ 40 μm0.8 ~ 250 μm波長量測範圍190 ~ 1600 nm750 ~ 850 nm感光元件光電二極管陣列 512ch矩陣型CCD影像感測器 512ch光電二極管陣列 512ch光源規格D2/I2（紫外-可視光）、D2（紫外光）、I2（可視光）I2（可視光）電源規格AC100V±10V 750VA（自動平台驅動部分）尺寸481（H）×770（D）×714（W）mm（主體部分）重量約96kg（主體部分）
■玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質分析