GD-Profiler2辉光光谱仪

技术参数

GD-Profiler系列包括2种型号，全部装备RF射频光源，每种型号均有多种选配件，用于满足不同用户的测试要求和预算。GD-Profiler2可测试多种样品，有着极高的性价比，GD-Profiler HR是目前商品化的辉光光谱仪中性能的，二者均可分析导体和非导体的固体样品。广泛应用于传统的镀锌/锡板（彩涂板）、汽车工业、航空航天、热处理（渗碳/渗氮）、陶瓷工业、玻璃工业、表面污染以及当前在欧美和日本科研与工业对半导体电子（液晶面板/硬盘/芯片）、新能源（锂电池/LED/光伏）研究与分析应用可以替代原来只能依赖的SIMS(二次离子质谱)或XPS（光电子能谱仪）。与其相比之下GDS做到更高效、更快速、更经济等多方面优势，受到越来越多的科研工作者的认可与青睐，刮起一股从西方到东方席卷的辉光新风。

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RF射频发生器- 标准配置，符合E级标准，稳定性高，溅射束斑极为平坦，等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。
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脉冲工作模式既可分析常见的涂、镀层和薄膜，也可以很好的分析热传导性能差和热易碎的涂、镀层和薄膜。
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多道(同时)型光学系统可全谱覆盖，光谱范围：110nm至800nm，包含远紫外，可分析C, H, O, N, Cl
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Jobin Yvon 的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器有光通量，因而有的光效率和灵敏度
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HDD® 检测器可进行快速而高灵敏的检测，动态范围达到10个量级
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宽大的样品室方便各类样品的加载
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功能强大的QUANTUMT XP软件可以多种格式灵活方便的输出检测
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激光指点器(CenterLite laser pointer，申请中)可用于Jobin Yvon独有的单色仪(选配件)可极大的提高仪器的灵活性，可同时测定N+1个元素

主要特点

Jobin Yvon 所生产的辉光放电发射光谱仪(RF-GD-OES)采用射频(RF)光源，可以进行导体和非导体材料的基体、表面、逐层分析，是一种快速的、操作简单的分析手段。

GDS是一种理想的表面、逐层分析工具，分析深度高达几百微米，深度分辨率可至原子层。

Jobin Yvon所生产的辉光放电光谱仪(GD)全部采用技术的HDD(High Dynamic range Detection)检测器，可以实时、自动优化工作参数，在灵敏度和动态范围不受任何损失的情况下，一个分析通道就能完全满足同一元素在不同层面内微量和主量的测定。

仪器介绍

GD-Profiler2可以快速、同时分析七十余种元素，包括氮、氧、氢和氯元素，是一种用于薄膜(包括涂层、镀层、渗层等)成份和工艺分析的理想工具。

GD-Profiler2采用脉冲工作模式的RF光源，可以有效地分析热传导性能差和热敏感的样品。应用领域包括腐蚀与防腐、PVD、CVD、过程控制，也可用于日常的金属和合金的产品质量控制与检测。