基片尺寸:4英寸(100mm)直径样品台旋转:60rpm基片烘烤温度：室温~600 oC，控温：±2 oC溅射靶:6英寸平面靶(150mm直径)溅射靶安装方式:向上溅射,基片在溅射靶下方溅射靶电源:1250W,13.56MHz,自动匹配气路:配置两路质量流量计,流量范围50~100sccm基片清洗离子源:直径140mm离子源膜厚测试功能:预留检测仪接口真空室尺寸:Ф450,外部设置烘烤系统，烘烤温度150oC系统极限真空度:8x10-5Pa系统从大气到10-4Pa的抽气时间小于30分钟系统漏率：系统整体漏率小于10-10Pa。M3/S真空系统采用分子泵机械泵系统以上是磁控溅射镀膜机的详细信息，如果您对磁控溅射镀膜机的价格、厂家、型号、图片有什么疑问，请联系我们获取磁控溅射镀膜机的新信息。