什么是光刻机

发布时间:2020/4/26 9:25:00

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

    生产集成电路的简要步骤:

    • 利用模版去除晶圆表面的保护膜。

    • 将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

    • 用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

    其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:

    • 模版和晶圆大小一样,模版不动。

    • 模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。

    其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的。