X射线电镀测厚仪在电子工业材料中的应用

发布时间:2016/9/16 15:08:00

苏州实谱信息科技有限公司位于江苏苏州从事X射线荧光光谱技术研发生产的高新技术企业。我公司涉及X射线荧光光谱仪、ROHS测试仪、X-ray膜厚仪、X荧光陶瓷鉴定仪、镀金膜厚仪、便携光谱仪等产品解决方案,并具有多年的X射线荧光光谱仪相关产品与服务的销售和经验。凭借的技术,诚信的经营,和不断创新的精神公司发展迅速。在发展的同时公司不忘不断总结不断优化为客户的服务,和一如既往的热情赢得了新老客户的极高评价及青睐。


仪器主机

X射线电镀测厚仪技术参数:
元素分析范围:从硫(S)到铀(U)
同时分析几十种以上元素,五层镀层
分析检测限可达2ppm,镀层分析可以0.005um厚度样品
分析含量一般为1ppm到99.9%
镀层厚度一般在50um以内(每种材料有所不同)
任意多个可选择的分析和识别模型
相互独立的基体效应校正模型
多变量非线性回收程序
多次测量重复性可达0.1%
温度适应范围:15度到30度
仪器配置:
高压电源:0-50kv
光管管流:0uA-1000uA
滤光片:可选择多种定制切换
探测器:Si-Pin/(SDD可选)

X射线电镀测厚仪应用方案:

塑料制品工业镀层、电子材料镀层(接插件、半导体、线路板、电容器等)、钢铁材料镀层(铁、铸铁、不锈钢、低合金、表面处理钢板等)、有色金属材料镀层(铜合金、铝合金、铅合金、锌合金、镁合金、钛合金、贵金属等)、 其它各种镀层厚度的测量及成分分析。

仪器长期稳定性评定

单镀层Ni/Cu稳定性测定:连续测定20次,计算其标准偏差和相对标准偏差,均能达到很好的效果。

测量

次数

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

Ni(um)

1.778

1.783

1.774

1.78

1.774

1.765

1.784

1.763

1.759

1.769

测量

次数

11

12

13

14

15

16

17

18

19

20

Ni(um)

1.751

1.768

1.78

1.763

1.792

1.768

1.792

1.762

1.752

1.754

平均

厚度

1.771

标准

偏差

0.01231

相对标

准偏差

0.00695

?

?

?

?

 

铜上镀金单镀层厚度测量铁、铜等材料上镀金的金厚度测量是工业中常见的,利用镀金膜厚仪可以获得很的结果。

荧光厚度与已知厚度样品结果对比:

镀层标准厚度(μm)

0.12

0.45

1.35

2.55

4.12

5.23

7.65

镀层荧光厚度(μm)

0.11

0.48

1.37

2.47

4.06

5.35

7.58

 

铜上镀镍再镀金的双镀层厚度测量铁、铜等材料上先镀镍再镀金的厚度测量也是工业中常见的,见下表:

镍镀层标准厚度(μm)

0.15

0.85

1.30

2.15

4.56

8.13

9.55

镍镀层荧光厚度(μm)

0.13

0.88

1.33

2.20

4.60

8.25

9.48

金镀层标准厚度(μm)

0.23

0.45

0.75

1.15

1.22

1.53

1.65

金镀层荧光厚度(μm)

0.21

0.43

0.77

1.17

1.26

1.55

1.58

样品


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