核心装备赋能半导体创新 雷博科仪闪耀慕尼黑上海光博会

发布时间:2025/3/20 14:27:00

作为亚洲激光、光学、光电行业的年度盛会,本届慕尼黑上海光博会以“躬耕不辍,智启新程”为主题,超过1400家展商齐聚申城,展示面积逾10万平方米,全面展示激光、光学、光电领域从基础元器件到系统集成的全产业链创新成果。江苏雷博科学仪器有限公司(以下简称“雷博科仪”)受邀参与此次盛会,并在E7馆检测与质量控制区大放光彩。
 
  雷博科仪专注于为微电子和半导体领域的高等院校、科研院以及各类生产企业提供半导体设备仪器。在本次展会现场,雷博科仪携五大精良仪器——AC200匀胶机、DM200-SE显影机、HP100-SE烤胶机、EC400有机-金属真空热蒸镀仪、MS450多靶磁控溅射镀膜系统亮相。
image.png雷博科仪展台不仅是技术展示的窗口,更是行业交流的枢纽——科研学者、工程师与产业先锋在此碰撞思想火花,共同探讨未来技术路径。这种直面用户的深度互动,也为雷博科仪后续产品研发与市场拓展注入新的动能。
 
  AC200匀胶机
image.pngAC200匀胶机以全新升级的外观设计适配实验室需求,其先进的设计理念采用模块化架构,不仅支持去边、背洗、匀胶、显影、清洗等多功能模块的个性化定制与自由组合,更可实现功能模块快速拆卸替换,显著提升操作便捷性。
 
  设备搭载精密运动控制系统,通过高度集成的技术方案,在保障实验精度与重复性的同时,为用户提供了从基础研发到工艺优化的全流程灵活支持,充分满足复杂实验场景下的定制化需求与高效运维标准。
image.pngDM200-SE显影机通过创新技术设计,实现了工艺精度与操作效能的双重突破。设备采用全封闭式显影结构,有效防止显影雾气外溢,既保障实验环境洁净无污染,又通过内腔镜面抛光不锈钢材质与耐腐蚀喷塑外壳的协同作用,确保设备表面光洁易维护。
 
  DM200-SE显影机核心功能系统搭载可调节的波体流量与回吸控制模块,配合实时显示的真空压力调节系统,支持精细化工艺参数定制;内置真空过滤器形成双重防护机制,既能精准阻隔液体侵入真空泵,又通过模块化设计满足多场景工艺需求,为半导体及微电子领域提供了兼具环境友好性、操作灵活性与设备耐久性的显影解决方案。
MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备,主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。主机与控制一体化设计,操控方便,并且其结构紧凑,占地面积小。
 
  雷博科仪始终坚守“卓越科学仪器,专业领域服务”的企业理念,提供精良设备,确保每一位科研人员在科研道路上能够更加顺畅和高效。在慕尼黑上海光博会的璀璨舞台上,雷博科仪展示的每一台设备都凝聚着雷博科仪对半导体工艺需求的深刻洞察与技术沉淀。雷博科仪正以匠心深耕技术沃土,用智慧开启中国半导体装备产业的新征程。未来,我们期待见证更多中国智造的力量在科技舞台绽放光芒。