石英晶体膜厚控制仪

    石英晶体膜厚控制仪适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。石英晶体膜厚控制仪可满足即使最复杂、最高要求与特殊应用的需要。它擅长于过程控制、逻辑功能、程序和膜层储存容量、过程数据管理，尤其是沉积速率与膜厚的控制。

    ◆ 频率分辨率：在6.0　MHz时0.03　Hz
    ◆ 质量分辨率：0.375　ng／cm2
    ◆ 感应晶片频率：2.5，　3，　5，　6，　9.5，　10　MHz
    ◆ 膜厚显示：0.000～　999.9　K＆Aring；
    ◆ 成膜速率：00.0～999　Ang／sec　(0～9.99μm／min)
    ◆ 膜层数量：1～999
    ◆ 图形显示：256×64　LCD　，CCFL背景照明
    ◆ 全套配置
    ◆ MDC360C主机 一台、振荡器及电缆线 一套、探头 一个、晶片 5片
    ◆ 主机尺寸：16.98×3.47×9.355(单位：英寸)、前面板宽度18.98英寸

    1、标准RS-232和USB（有以太网选件）。
    2、贮存容量高至100个工艺过程，1，000个膜层，50个膜系。
    3、用单传感器或多传感器监测源材料，提供精确的源分布监测。
    4、高亮度，VGA活性点阵彩色LCD显示器–可显示英文或中文。
    5、易设置和操作，有“快速设置”菜单，6个上下文-敏感的按钮，和方便的参数设定旋钮。
    6、Window程序用于开发，测试，和下载工艺过程，和将仪器数据记录至您的PC上，用于过程分析与质量控制。
    7、精确的过程控制，尤其用于低淀积率，在10读值／秒时的分辨率为±0.03Hz，在0至50°C温度范围内的频率稳定性为±2ppm。