X射线光电子能谱仪
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（B.E)。
附件信息
XPS： 1.快速氩离子刻蚀枪 AES： 1.快速氩离子刻蚀枪 2.能量损失谱 ,
主要研究领域包括：（1）TiO2纳米光催化以及在空气和水净化方面的应用；（2）汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究；（3）纳米药物载体及靶向药物的研究；（4）纳米导电陶瓷薄膜材料的研究；（5）纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究；（6）纳米发光材料及纳米分析化学研究；（7）有机电致发光材料的表面化学研究；（8）纳米材料在香烟减毒净化上的应用研究；（9）无机纳米杀菌与抗菌材料及其在饮用水净化上的作用；（10）电解水制氧电极材料的研究
仪器类别
03030707 /仪器仪表 /成份分析仪器
指标信息： 主真空室：1×10-10 Torr XPS：0.5eV, AES: 分辨率：0.4%, 电子枪束斑：75nm , 灵敏度：1Mcps信噪比：大于70:1 角分辨：5°～90°. A1/Mg双阳极靶 能量分辨率：0.5eV ,灵敏度：255KCPS, 使用多通道检测器（MCD）
主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:
1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.
2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）
3. 线扫瞄或面扫瞄以得到线或面上的元素或化学态分布.
4. 成像功能.
5. 可进行样品的原位处理 AES：1.可进行样品表面的微区选点分析（包括点分析，线分析和面分析） 2.可进行深度分析适合： 纳米薄膜材料，微电子材料，催化剂，摩擦化学，高分子材料的表面和界面研究